ZHCAFX6 October 2025 HDC3020
進(jìn)行烘烤是為了去除影響 RH 精度的水分或化學(xué)殘留物。這種做法是有效的,因?yàn)樵谳^高的溫度下,化學(xué)污染物釋放氣體的速度會(huì)增加,這意味著化學(xué)污染物的去除過(guò)程得以加速??梢允褂眉墒郊訜崞髟谛酒贤瓿珊婵荆ㄕ?qǐng)參閱節(jié) 4.7.3了解如何使用集成式加熱器),也可以在外部的受控烘箱中進(jìn)行。
首先將傳感器在 100°C 和 <5%RH 的條件下烘烤 5 至 10 小時(shí),然后重新評(píng)估 RH 精度。按照 TI 的 RH 傳感器數(shù)據(jù)表中的建議,烘烤持續(xù)時(shí)間可長(zhǎng)達(dá) 10 小時(shí)。烘烤后,根據(jù)數(shù)據(jù)表中的建議重新水合 RH 傳感器,以幫助恢復(fù)或減少因化學(xué)品暴露而導(dǎo)致的精度漂移。如果在烘烤和再水合后未獲得充分的 RH 精度改善,則執(zhí)行額外的烘烤有助于排出更多化學(xué)污染物。烘烤過(guò)程必須在沒(méi)有他化學(xué)污染源的情況下進(jìn)行,因?yàn)楦邷乜赡軙?huì)加速進(jìn)一步污染的影響。在有些(但并非所有)存在化學(xué)污染的情況下,烘烤可以減少由污染引起的 RH 變化。